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適合于激光打印機的MEMS掃描儀相關申請的交叉引用本申請要求由WyattO.Davis等發(fā)明的，在2004年2月9日提交的，名為“適合于激光打印機的MEMS掃描儀(MEMSSYSTEMADAPTEDTOALASERPRINTER)”的共同未決US臨時專利申請序列號60/542,896的優(yōu)先權。本申...

顯影裝置驅(qū)動器及采用其的成像裝置本發(fā)明涉及彩色成像裝置用顯影裝置驅(qū)動器及采用其的彩色成像裝置。更具體地，本發(fā)明涉及這樣一種彩色成像裝置用顯影裝置驅(qū)動器及采用其的成像裝置，即，該顯影裝置驅(qū)動器順序地驅(qū)動設在離光電導介質(zhì)預定間隔處的多個顯影裝置。典型成像裝置例如激光束打印機操作如下。把...

用于顯示裝置的近紅外線吸收性層積膜本發(fā)明涉及具有近紅外線吸收功能和減低不均衡光干涉功能的層積膜，更具體地，涉及附設在例如等離子體顯示板(PDP)等顯示設備上的層積膜。近來，在電視機、監(jiān)視器等等的顯示裝置變薄、變大方面已經(jīng)取得了進展。等離子體顯示板就是薄而大的顯示裝置的一個例子。等離...

顯影液盛滾筒濕潤及清理裝置本發(fā)明涉及一種濕潤及清理裝置，尤其涉及一種顯影液盛滾筒濕潤及清理裝置。通常在制造薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)時，必須先在干凈的玻璃基板上制作薄膜晶體管的圖案，其工藝與普通半導體的工藝類似。首先要沉積薄膜，如介電薄膜或金屬膜；然后進入光刻工藝(ph...

?保持平板印刷投射透鏡下面的浸沒流體的設備和方法有關申請本申請要求2003年4月11日提出的題為“浸沒式平板印刷方法的流體附著墊板”的臨時專利申請60/462499的先有權，該申請的內(nèi)容在所有方面已作為參考包含在本文中。發(fā)明背景在進行半導體加工期間，通常采用平板印刷系統(tǒng)將光柵上的圖像傳送到半導體晶...

用于對屈光手術后、角膜矯正術后以及圓錐角膜的變形角膜進行重塑的接觸鏡片相關申清的交叉引用本申請是2003年8月6日提交給美國受理局的、國際申請?zhí)枮镹o.PCT/US03/24624的共同在審PCT國際申請的延續(xù)申請，上述國際申請要求2002年8月7日提交的申請?zhí)枮镹o.10/214,652、現(xiàn)為美...

制造光學薄膜的方法、制造該膜的裝置、光學薄膜、偏振片及圖像顯示裝置本發(fā)明涉及具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的光學薄膜(特別是在低反射率時具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的減反射膜)的制造方法，用于制造該膜的裝置，以及由所述方法獲得的光學薄膜。本發(fā)明還涉及一種裝配有所述光學薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。背景...

?制造光學薄膜的方法、制造該膜的裝置、光學薄膜、偏振片及圖像顯示裝置本發(fā)明涉及具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的光學薄膜(特別是在低反射率時具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的減反射膜)的制造方法，用于制造該膜的裝置，以及由所述方法獲得的光學薄膜。本發(fā)明還涉及一種裝配有所述光學薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。背...

?制造光學薄膜的方法、制造該膜的裝置、光學薄膜、偏振片及圖像顯示裝置本發(fā)明涉及具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的光學薄膜(特別是在低反射率時具有優(yōu)異的耐磨性/耐劃性的減反射膜)的制造方法，用于制造該膜的裝置，以及由所述方法獲得的光學薄膜。本發(fā)明還涉及一種裝配有所述光學薄膜的偏振片和圖像顯示裝置。背...

投影地圖本發(fā)明涉及一種地圖，尤其是地圖的儲存和閱覽方式。目前的地圖基本是紙制，這樣容量??；另外也有電子地圖，但受制于電腦上使用，而且地圖大小顯示受顯示屏局限。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的任務是設計出容量大、顯示大、使用方便的地圖。本發(fā)明是采用縮微膠卷或者數(shù)碼U盤儲存，采用電子投影或電子投影的方...

液晶顯示器的柱狀支撐物本發(fā)明有關一種液晶顯示器用的支撐物，特別是提供一種可用于薄膜電晶體-液晶顯示器的間隙物。一般而言，根據(jù)液晶分子填入方式的不同，液晶面板可以分為兩種形式：虹吸式入液晶面板(vacuumfillLCD)與滴下式液晶注入法液晶面板((ODF)LCD)。于真空填入液晶...

由馬達驅(qū)動設于光源和數(shù)字微晶鏡片間的遮光罩的投影儀本發(fā)明涉及一種投影儀，尤其涉及一種由馬達驅(qū)動設于光源與數(shù)字微晶鏡片(digitalmicro-mirrordevice)之間的遮光罩的投影儀，本發(fā)明還涉及一種控制投影儀的影像對比的方法。通常，在會議上作報告時，為了使參會人員能清楚了...

攝影一目標物時移動一鏡頭至一最佳鏡頭位置的對焦方法本發(fā)明提供一種移動鏡頭的方法，尤指一種于攝影一目標物時移動一鏡頭至一最佳鏡頭位置，且不預設對焦區(qū)域的對焦方法。當一影像裝置(例如一數(shù)字相機或是一數(shù)字攝影機)欲攝影一目標物時，該影像裝置可啟動一對焦流程，于現(xiàn)有對焦流程中，該影像裝置的...

超小型變焦鏡頭本發(fā)明涉及一種變焦鏡頭系統(tǒng)，具體的說是涉及一種由兩個透鏡組構成的高變焦比的超小型變焦鏡頭。目前應用于拍照手機和數(shù)碼相機的變焦鏡頭大多采用三個透鏡組，如中國專利號為200410078895.7的“變焦鏡頭”就是一種具有負、負、正三個透鏡組的變焦鏡頭，其第一透鏡組位置固定...

?曝光裝置本發(fā)明涉及曝光裝置，尤其涉及適用于液晶面板制造用的曝光裝置及該曝光裝置所使用的架(stage)構件。為了制造液晶面板需要在襯底上形成用于控制液晶顯示元件的TFT電路圖案。為了在襯底上形成電路圖案，采用具有電路圖案的掩模，進行將掩模上的圖案轉(zhuǎn)印于襯底上進行曝光的操作。用于此...

場致發(fā)光顯示器本發(fā)明涉及顯示器，尤其涉及場致發(fā)光顯示器，更具體地涉及場致發(fā)光/液晶混合的顯示器。某些材料是場致發(fā)光材料，即，在該材料上產(chǎn)生電場時，它們發(fā)射光。第一個已知的場致發(fā)光材料是無機顆粒物質(zhì)，例如，硫化鋅，而最近發(fā)現(xiàn)的場致發(fā)光材料包括稱之為有機發(fā)光二極管(OLED)的多個小分...

投影光學系統(tǒng)及其制造方法、曝光裝置及曝光方法本發(fā)明涉及一種投影光學系統(tǒng)、投影光學系統(tǒng)的制造方法、曝光裝置及曝光方法，特別是涉及一種在紫外線微影技術中，具有用于250nm以下特定波長域的光學構件的投影光學系統(tǒng)、投影光學系統(tǒng)的制造方法、曝光裝置及曝光方法。在用以制造半導體元件、液晶顯示...

圖像形成裝置本發(fā)明涉及復印機、傳真機、印刷機等的圖像形成裝置。作為這樣一種圖像形成裝置，包括圖像形成單元的圖像形成裝置已經(jīng)廣為大家所知，該圖像形成單元可拆卸地設在裝置主體中，并一體地具有感光體、曝光裝置等。舉例來說，一種使感光鼓和發(fā)光元件陣列結合為一體，并使相互位置關系高度精確的技...

平面顯示裝置用的背光模組本發(fā)明是關于一種背光模組，尤指一種適用于液晶顯示裝置的背光模組。部分本身不發(fā)光的平面顯示器，需要額外的光源以提供足夠的光源供顯示之用，一般多與光學模組結合使用。例如液晶顯示裝置，多使用包含光源的背光模組提供均勻的面光源供顯示之用。而一般與液晶顯示面板結合使用...

液晶顯示器的激光修補結構及其方法本發(fā)明有關于一種薄膜晶體管液晶顯示面板的結構，特別是提供一種激光修補結構與方法來提升顯示品質(zhì)。通常，薄膜晶體管液晶顯示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)的液晶填充在一含有電極的薄膜晶體...