1.一種核殼型金屬氧化物粒子c，其平均一次粒徑為10～20nm，用透射型電子顯微鏡觀察金屬氧化物粒子時的粒子的當量圓粒徑的標準偏差σ小于3nm。
2.如權(quán)利要求1所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述核殼型金屬氧化物粒子c用包含鈦氧化物的金屬氧化物a2來被覆成為核的金屬氧化物粒子a1的表面，并對該被覆進一步用以除鈦氧化物以外的金屬氧化物作為主成分的金屬氧化物a3來被覆，且所述金屬氧化物粒子a1為含有選自錫氧化物、鋯氧化物、鋅氧化物、鐵氧化物、鎳氧化物、鋁氧化物中的至少1種的金紅石型鈦氧化物。
3.如權(quán)利要求2所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述金屬氧化物a3包含選自鋯氧化物、錫氧化物、二氧化硅、鋅氧化物、銻氧化物、鈮氧化物、鎢氧化物、鋁氧化物、鉭氧化物中的至少1種金屬氧化物、或2種以上的復合氧化物。
4.如權(quán)利要求2所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述金屬氧化物a3為錫氧化物-二氧化硅的復合金屬氧化物。
5.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述核殼型金屬氧化物粒子c的折射率為2.1～2.7。
6.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，以tio2換算計包含60～85質(zhì)量％的鈦氧化物。
7.如權(quán)利要求1～4中任一項所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，進一步用被覆物b被覆了所述核殼型金屬氧化物粒子c。
8.如權(quán)利要求7所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述被覆物b為選自胺b1、硅烷化合物b2、有機酸及有機酸酯b3、磷酸酯b4、和表面活性劑b5中的至少1種。
9.如權(quán)利要求8所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述胺b1為具有5～35的總碳原子數(shù)的仲胺及/或叔胺。
10.如權(quán)利要求8所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述硅烷化合物b2為選自式(1)～式(3)中的至少1種硅烷化合物的水解物及/或脫水縮合物，
11.如權(quán)利要求8所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述有機酸及有機酸酯b3為乙酸、苯甲酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、乙醇酸、乳酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、或它們的烷基、芳基或芳基烷基的酯。
12.如權(quán)利要求8所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述磷酸酯b4為選自式(4)～式(6)中的至少1種磷酸酯，
13.如權(quán)利要求8所述的核殼型金屬氧化物粒子c，其中，所述表面活性劑b5為陰離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、非離子表面活性劑或兩性表面活性劑。
14.一種核殼型金屬氧化物溶膠，其包含權(quán)利要求1所述的核殼型金屬氧化物粒子c、以及分散介質(zhì)。
15.如權(quán)利要求14所述的核殼型金屬氧化物溶膠，其中，所述分散介質(zhì)為水、醇、醚、酯、酮、酰胺、烴、或由它們的組合所構(gòu)成的分散介質(zhì)。
16.一種清漆，其包含：
17.如權(quán)利要求16所述的清漆，其中，所述清漆為耐光性改善用清漆。
18.如權(quán)利要求16所述的清漆，其中，所述清漆為硬涂用清漆。
19.如權(quán)利要求16所述的清漆，其中，所述清漆為納米壓印用清漆。
20.權(quán)利要求14或15所述的核殼型金屬氧化物溶膠的制造方法，其包含下述i、ii及iii工序，